Больше не нужно искать — необходимые
обучающие материалы и подсказки всегда под рукой

Бельгийский Межуниверситетский центр микроэлектроники (imec) создал первое в мире устройство на квантовых точечных кубитах, изготовленное с помощью технологии High-NA EUV-литографии.
Главное достижение — не просто сам факт производства, а рекордная плотность печати: критические элементы удалось выполнить с зазорами около 6 нм. Для таких кубитов это критически важно, так как сила связи между соседними квантовыми точками растет экспоненциально при сокращении расстояния между ними.
В imec отметили, что внедрение High-NA EUV позволяет перейти от лабораторных демонстраций единичных устройств к воспроизводимым кубитам, совместимым с 300-миллиметровыми пластинами.
Ранее центр называл ключевыми условиями масштабирования полный переход на 300-миллиметровый процесс и применение более масштабируемой архитектуры квантовых точек, что должно решить проблему узкого места проводников.
Индустрии требуются не только высококачественные, но и масштабируемые кубиты. В imec считают, что квантовые биты на спинах электронов в кремниевых квантовых точках привлекательны именно возможностью одновременно улучшать характеристики кубитов и наращивать масштабируемость производства.
В imec сообщили, что EUV-литография обеспечивает гораздо более высокую точность совмещения слоев при производстве чипов по сравнению с E-beam-инструментами. Для кремниевых кубитов это принципиально, так как стабильность системы зависит не только от минимального размера элементов, но и от точности взаимного расположения управляющих электродов, контактов и металлизации.
Отдельно в imec подчеркнули, что High-NA EUV пока остается крайне редкой технологией.
Напомним, в мае глобальный директор по продажам IBM Quantum Петра Флоризун заявила о выходе квантовых вычислений из стадии лабораторных экспериментов и начале их применения в реальных задачах.
Популярные новости: