Аналитики усомнились в угрозе от DUV-литографов Китая

28.07.2026 Китай Мнения Новости технологии чипы

Аналитики поставили под сомнение важность новостей о старте выпуска в Китае погружных DUV-литографов. По их мнению, первые образцы пока не угрожают лидерству компании ASML.

Информационная бомба

Материал, опубликованный в понедельник The Information со ссылкой на анонимные источники, спровоцировал обвал акций ASML на торгах в США. В течение дня бумаги падали более чем на 8%, а закрылись снижением на 5,8%.

Издание утверждает, что Китай запустил производство собственных погружных DUV-литографов через государственную компанию в Шанхае.

По данным журналистов, в 2026 году страна может выпустить около пяти таких установок, а в 2027 — еще примерно 20. Первыми получателями систем, как ожидается, станут SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies.

Reuters, также ссылаясь на информированный источник, подтвердило, что КНР начала серийный выпуск DUV-литографов. Проект возглавляет госкомпания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, которая привлекла к работе команды ведущих китайских стартапов в этой сфере.

Сейчас китайские производители чипов применяют оборудование от ASML, и технология DUV является для них самой передовой из доступных. Машины для более современной EUV-литографии запрещены к экспорту в страну. Поэтому компании из КНР могут создавать полупроводниковые элементы по 28-нанометровому техпроцессу за один цикл экспозиции и достигать 7 нм за счет многократного нанесения рисунка.

Насколько реален прорыв

SCMP со ссылкой на аналитиков указывает, что даже поставка первых машин не означает готовности к бесперебойной коммерческой эксплуатации. Пока о прямой угрозе доминированию нидерландской компании речи не идет.

Пол Триоло, партнер и руководитель направления технологической политики DGA-Albright Stonebridge Group, призвал не переоценивать эти сообщения. Главное препятствие, по его словам, — добиться стабильной работы погружных DUV-систем 24/7 в течение года.

Аналитик Jefferies Уильям Бивингтон отметил, что предыдущие заявления о прогрессе Китая в литографии оказывались ложными. Поэтому еще предстоит выяснить, насколько обоснованы нынешние утверждения. По оценке эксперта, возможности Китая в производстве такого оборудования могли бы развиваться быстрее, если бы ставка делалась на частный бизнес, а не на госкомпании вроде SMIC и CXMT. Сейчас они полностью зависят от импортных установок, поэтому крайне заинтересованы в сотрудничестве с нидерландским поставщиком и присутствии его инженеров для обслуживания машин.

«Китай, несомненно, продолжит закупать оборудование ASML до тех пор, пока это будет возможно, благодаря его значительно превосходящему качеству», — заявил Бивингтон.

По мнению экспертов, более серьезным риском для доминирования ASML являются потенциальные экспортные ограничения со стороны США. Законопроект Match Act, одобренный Комитетом по иностранным делам Палаты представителей США в апреле, но еще не вынесенный на голосование в полном составе, запрещает продажу погружных систем DUV странам, «вызывающим опасения». Документ предполагает более жесткие ограничения на обслуживание и техподдержку для «ключевых предприятий по производству полупроводников».

«Если бы закон Match Act, например, заставил ASML отозвать своих инженеров, это дало бы огромный импульс развитию китайской погружной технологии DUV», — считает Триоло.

По его оценке, усилия Пекина в любом случае не приведут к созданию единой компании, напоминающей «китайскую ASML».

Напомним, в июне на фоне экспортных ограничений США Huawei анонсировала намерение выпускать новое поколение ИИ-чипов Ascend каждый год и вдвое наращивать их производительность. Стартап DeepSeek раскрыл планы по созданию собственного процессора для своих моделей.

Обменять